O documento descreve novas abordagens para fabricação de circuitos eletrônicos usando nanotecnologia, incluindo o processo convencional de fotolitografia e métodos como feixe de elétrons e raios-X. Também apresenta o transistor Tri-Gate da Intel, que pode reduzir desperdício de energia em até 37% e melhorar tempo de resposta devido ao confinamento quântico dos elétrons.

1. Novas abordagens para a fabricação de circuitos eletrônicos utilizando nanotecnologia Aluno: Rafael Fernandes Maia Mores

3. Apresentar uma tecnologia de ponta ( Intel Tri-gate Transistor )

5. Contrastar com os métodos discutidos em sala( Feixe de elétrons, Raio-X, etc. )

6. Mostrar o estado da arte em transistores ( Intel Tri-Gate )

8. Confinamento quântico dos elétrons, aumentando a superfície de contato na região de depleção ( caminho 2D )

9. O tempo de resposta cai e a tensão de operação é menor

10. Só é possível com nanotecnologia

11. FIM "For years we have seen limits to how small transistors can get," said Gordon E. Moore. "This change in the basic structure is a truly revolutionary approach, and one that should allow Moore's Law, and the historic pace of innovation, to continue." - Gordon E. Moore Vídeo da Intel sobre o transistor Tri-Gate: http://www.youtube.com/watch?v=YIkMaQJSyP8