3. R B
空のp軌道
(ルイス酸性)
C-B結合は
イオン性が低い
電気陰性度
(B:2.0, C:2.5)
塩基
ホウ素(sp3)
アート錯体
求核性が上がる
R B
B
R
B
B
有機ホウ素反応剤の性質
▶他の有機金属試薬に比べて高い安定性 (保存性)をもつ
▶適切な条件下、高い反応性と選択性を示す
H. C. Brown
Novel Prize (1979)
鈴木章
Novel Prize (2010)
Boronic
Acids:
Preparation
and
Applications
in
Organic
Synthesis,
Medicine
and
Materials,
2
nd
revised
ed.;
Hall,
D.
G.,
Ed.;
Wiley-‐VCH:
Weinheim,
2011.
4. 改善の余地: 官能基許容性、位置選択性、触媒的不斉合成
BH
2
+
H B(ipc)2 oxidation H OH
99% ee
▶Brownの不斉ヒドロホウ素化: 化学量論量の不斉補助基を必要とする
+
O
HB
O
[Rh(cod)2]BF4 (1 mol %)
(R)-BINAP (1 mol %)
−78 °C, 6 h
B(cat)
91%
96% ee
Hayashi,
T.;
Matsumoto,
Y.;
Ito,
Y.
J.
Am.
Chem.
Soc.
1989,
111,
3426.
▶触媒的不斉ホウ素化: 基質が限定的
▶アルキルホウ素化合物の合成: 官能基許容性が低い、位置選択性に課題
R Li X B or
R1
R2 H B
R1
R2
R1
R2
+
B
B
5. 銅触媒によるSi-SiおよびB-B結合の活性化
Ito,
H.;
Ishizuka,
T.;
Tateiwa,
J.;
Sonoda,
M.;
Hosomi,
A.
J.
Am.
Chem.
Soc.
1998,
120,
11196.
Cu
X
Si
Si
Cu Si
L
L
+
cat. CuX
PR3
DMI, rt
H3O+
O O
B
B B
O
OO
O
O
O Cu
X
B
B
Cu B
L
L
CuX/PR3
catalyst:
Ito,
H.;
Yamanaka,
H.;
Tateiwa,
J.;
Hosomi,
A.
Tetrahedron
Lett.
2000,
41,
6821.
CuCl/KOAc
catalyst:
Takahashi,
K.;
Ishiyama,
T.;
Miyaura,
N.
Chem.
Lett.
2000,
982.
Si Ph +
cat. CuOTf
PBu3
DMI, rt
H3O+
OSiPh O
Si
Ph
▶ジシランの系をヒントにジボロン/銅触媒系を初めて見出した
▶ホウ素置換基の求核的導入を可能としたホウ素化学分野のブレークスルー
6. 求核的なホウ素化反応… 反応設計の指針
B B
Cu(I) OR B
B
Cu
OR
− BOR
Cu(I) B
▶ キラル配位子を用いた不斉ホウ素化
銅(I)触媒法の特徴
▶ 有機銅の求核置換との組み合わせ
▶ 電子求引性基による位置選択性の制御
EWG
R
B
R
*
Cu
EWG
I
B
R
*
EWG
Cu
位置選択性: 有機銅の安定性
EWG = ROCH2
B
R
*
Cu
I
RO B
R
*
有機銅のβ脱離
有機銅による置換反応
EWG
RR
B
* or
EWG
RH
B
*
RX
HRO
8. 合成の難しい小員環骨格を効率よく合成できる
(pin)B
4 h, 86%
(pin)B
4 h, 84%
(pin)B
6 h, 87%
d.r. = 1.1:1
5 mol % CuCl
5 mol % Xantphos
(pin)B-B(pin) (1.2 equiv)
K(O-t-Bu) (1.2 equiv)
THF, 30 °C
n
C
C
Cu
(pin)B
– CuBr
C n
n = 1−3 n = 1−3
C
C
Br
Br C
(pin)B
L
(pin)B
4 h, 95%
d.r. = 1.4:1
Kubota,
K.;
Yamamoto,
E.;
Ito,
H.
J.
Am.
Chem.
Soc.
2013,
135,
2635.
Br 5 mol % CuCl / Xantphos
(pin)B-B(pin) (1.2 equiv)
K(O-t-Bu) (1.2 equiv)
THF, 30 °C, 4 h
B
90%
O
O
9. 1. NaBO3/4H2O
THF/H2O, rt, 1 h
2. Jones Reagent
acetone, 0 °C, 1 h
64% (2 steps)
C-O Bond Formation
Condensation
Histamine H3 Receptor Ligand
O
N
S
O O
HO
O
N
S
O O
N
N
5 mol % CuCl / Xantphos
(pin)B-B(pin) (1.2 equiv)
t-BuOK (1.2 equiv)
THF, 30 °C, 4 h, 82%
B(pin)
N
S
O O
N
S
O O
Br Borylative Cyclization
NHN
HBTU, iPr2NEt
DMF, rt, 2 h, 91%
Kubota,
K.;
Yamamoto,
E.;
Ito,
H.
J.
Am.
Chem.
Soc.
2013,
135,
2635.
ボリル環化反応を利用した生理活性化合物の合成
10. H
BnO BF3K
H
BnO
N
N
+
Cl
CsOH•H2O (5.0 equiv)
CPME/H2O (0.5 M)
105 °C
NH2Pd
P
OTf
Bu
Pd catalyst
(7.5 mol %)
86%, 99% ee
(>99% es)
99% ee
(S)
(R)
Molander,
G.
A.;
Wisnieski,
S.
R.
J.
Am.
Chem.
Soc.
2012,
134,
16856.
光学活性α-アルコキシアルキルホウ素化合物
Ph
B
O
O
Cy
Cy
n-BuLi
CH2Cl2
ZnCl2
THF
Ph B
Cl
O
O
Cy
Cy
BnOLi
THF/DMSO
Ph B
OBn
O
O
Cy
Cy>99% ee
▶既存の合成法は多段階かつ化学量論量の不斉補助基が必要
12. Ph
O
1. CuCl / L* (5 mol %)
K(O-t-Bu) (10 mol %)
MeOH (2.0 equiv)
THF, 30 °C, 6 h
2. BnMe2SiCl, imidazole
CH2Cl2, 3 h
Ph HH
BnMe2SiO B
(S)
NMR yield (%)
B B
O
O O
O
+
1.0 equiv
O
O
O
O
O
O
P
P
tBu
OMe
tBu
tBu
OMe
tBu
2
2
(R)-DTBM-SEGPHOS
72%, 96% ee
O
O
O
O
P
P
Me
Me
Me
Me
2
2
(R)-DM-SEGPHOS
71%, 32% ee
(R)-SEGPHOS
74%, 24% ee
O
O
O
O
P
P
2
2
steric hinderance
enantioselectivity
不斉配位子の探索: DTBM-SEGPHOSがベスト
Kubota,
K.;
Yamamoto,
E.;
Ito,
H.
J.
Am.
Chem.
Soc.
2015,
137,
420.
13. R
O
1. 5 mol % CuCl/
(R)-DTBM-SEGPHOS
K(O-t-Bu) (10 mol %)
MeOH (2.0 equiv)
THF, 30 °C, 6 h
2. R3SiCl, imidazole
CH2Cl2, 3 h
H
B B
O
O O
O
+
1.0 equiv
R H
R3SiO B
(S)
isolated yield (%)
O
O
基質適用範囲
Kubota,
K.;
Yamamoto,
E.;
Ito,
H.
J.
Am.
Chem.
Soc.
2015,
137,
420.
B(pin)BnMe2SiO
H
N
Boc
81%, 95% ee
Ph
B(pin)BnMe2SiO
H
B(pin)Me3SiO
H
B(pin)Me3SiO
H
B(pin)Me3SiO
H
70%, 96% ee 51%, 96% ee 61%, 95% ee 84%, 95% ee
B(pin)BnMe2SiO
HO
O
66%, 85% ee
B(pin)BnMe2SiO
H
69%, 90% ee
BzO
B(pin)BnMe2SiO
H
69%, 95% ee
BnO
14. For
a
review
of
Matteson
homologation
chemistry:
Matteson,
D.
S.
Tetrahedron
1998,
54,
10555.
Sadhu,
K.
M.;
Matteson,
D.
S.
Organometallics
1985,
4,
1687.
Stereospecific Csp3-Csp3 bond formation;
One-carbon homologation
Larouche-‐Gauthier,
R.;
Elfold,
T.
G.;
Aggarval,
V.
K.
J.
Am.
Chem.
Soc.
2011,
133,
16794.
Ph H
B(pin)BnMe2SiO
96% ee
ClCH2Br
n-BuLi
THF
−78 °C→rt
3 h
Ph H
BnMe2SiO B(pin)
92%, 96% ee
H2O2
NaOH Ph H
HO OH
77%, 96% ee
chiral 1,2-diol
chiral 1,2-haloalcohol
Ph H
R3SiO Br
80%, 96% ee
3,5-(CF3)2C6H3Li
then NBS, −78 °C
ホモロゲーションによる官能基化
有用な光学活性
β-アルコキシホウ素
15. coordinationσ-bond
metathesis
protonation
isomerization
(racemization?)
Cu B(pin)
P
P
Cu
B(pin)
P
P
O C
H
R
O C
Cu
R
B(pin)
H
P
P
O C
H
R
B(pin)
H
Cu OR
P
P
O C
(pin)B Cu
P
P
R = OMe or
O-t-Bu
O C
H
R
(pin)B−B(pin)
MeOH
(pin)B−OR
A
B
C
D
E
R
H
P
P
= (R)-DTBM-SEGPHOS
推定反応メカニズム
Mechanistic
study
based
on
DFT
calculation:
Kubota,
K.;
Jin,
M.;
Ito,
H.
submitted.
▶M2 ミングくん (韓国出身) と共同でDFT計算
M2 ミングくん
1,2-addition
▶前田理 准教授 (北大)とのディスカッション 「反応経路自動探索法の開発」
前田理 准教授
2013年 日本化学会進歩賞
物理オリンピック
参加経験アリ
16. Cu
B
P P
O
H
H
H
Cu
B
P P
O
H
H
H
Ar
Ar
Ar Ar
Ar
Ar Ar
Ar
Si-faceTS (favored) Re-faceTS (disfavored)
0 kcal/mol +1.97 kcal/mol
<
observed result
96% ee
Relative G value (kcal mol-1) at 298K, 1.0 atm, gas phase. B3PW91/cc-PVDZ
エナンチオ選択性: t-Bu基が大事
18. PP
Me
Me
Me
Me
Me
Me
Me
Me
L* = (R,R)-xyl-BDPP
10 mol % Cu(O-t-Bu) / L*
Na(O-t-Bu) (0.1 equiv)
t-BuOH (2.0 equiv)
THF, 30 °C
N
O
OMe
Cbz
N
O
OMe
Cbz
B
+
O
B
O
B
O
O
2.0 equiv
O
O
98% yield, d.r. 97:3
93% ee
世界初の方法: 脱芳香族不斉C-B結合形成反応
▶M1 羽山くんと共同研究 (詳細はポスター発表で)
▶電子求引性基であるエステル基が脱芳香族プロセスを促進
Kubota,
K.;
Hayama,
K.;
Iwamoto,
H.;
Ito,
H.
Angew.
Chem.,
Int.
Ed.
Early
View
M1 羽山くん
19. 推定反応メカニズム
Kubota,
K.;
Hayama,
K.;
Iwamoto,
H.;
Ito,
H.
Angew.
Chem.,
Int.
Ed.
Early
View
Cu B
P
P
P
P
= (R,R)-xyl-BDPP
(pin)B−(O-t-Bu)
N
Cbz
O
OMe
Cu B
PP
N
Cbz
O
OMeB
P
P
N
Cbz
O
OMeB
H
O
H
O
Cu(O-t-Bu)
P
P
HO
N
B
OMe
O
Cbz(S,R)-3a
H
Cu
Cu
P
P
A
B
C
D
E
substrate
diboron
coordination
σ-bond
metathesis
protonation
3,4-addition and
toutomerization
steric
repulsion