SlideShare ist ein Scribd-Unternehmen logo
1 von 14
ATMOSPHERIC PRESSURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF
ELECTROCHROMIC TUNGSTEN OXIDE FILMS
(Deposisi Uap Kimia Tekanan Atmosfer Film Elektrokromik Tungsten
Oksida)
EDI MIKRIANTO.,S.Si.,M.Si
EDI MIKRIANTO.,S.Si.,M.Si
Pembimbing Mata Kuliah SSA
Pembimbing Mata Kuliah SSA
(Sintesis Senyawa Anorganik)
(Sintesis Senyawa Anorganik)

Disusun Oleh:
Shinta Yuniar
Yusy Muridha Sari
Rara Iuda V. T
Miftahul Aulya I.
Ari Wahyudi
Deby Dwi Diliaty
Hapsari Tyas P.
PROGRAM STUDI S-1 KIMIA
FAKULTAS MATEMATIKA DAN ILMU PENGETAHUAN
ALAM
UNIVERSITAS LAMBUNG MANGKURAT
BANJARBARU

J1B110010
J1B110017
J1B111025
J1B111027
J1B110033
J1B111046
Latar Belakang…
• Banyaknya jenis metode sintesis material
• Tungsten Oksida
• Metode Chemical Vapor Deposition/Deposisi Uap Kimia

ATMOSPHERIC PRESSURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF
ELECTROCHROMIC TUNGSTEN OXIDE FILMS
(Deposisi Uap Kimia Tekanan Atmosfer Film Elektrokromik
Tungsten Oksida)
METAL-ORGANIC
CHEMICAL VAPOR
DEPOSITION

LASER CHEMICAL
VAPOR DEPOSITION
(LCVD)
PLASMA-ENHANCED
CHEMICAL VAPOR
DEPOSITION

CHEMICAL VAPOR
DEPOSITION/
DEPOSISI UAP
KIMIA

THERMAL
CHEMICAL VAPOR
DEPOSITION
ATMOSPHERIC
PRESSURE
CHEMICAL VAPOR
DEPOSITION
(APCVD)

PHOTO-ASSISTED
CHEMICAL VAPOR
DEPOSITION
HOT FILAMENT
CHEMICAL VAPOR
DEPOSITION
(HFCVD)
Chemical Vapor Deposition
 Chemical vapour deposition is essentially the formation of a thin
film on a substrate, of varying description, by a chemical reaction of
vapour phase precursors.
 The reaction in these instances occurs in the gas-phase, which is what
distinguishes CVD from other physical vapour deposition processes,
such as evaporation and reactive sputtering.
 ADVANTAGES : the production of highly dense and pure phase
materials, films have excellent adhesion, are uniform and easily
reproducible, crystal structure, surface morphology and orientation of
products can be controlled with ease, deposition rates can be
adjusted.
An overview of the process is shown below in Fig. 1
TUNGSTEN OKSIDA
 Bahan utama dalam berbagai macam perangkat elektrokromik.
 Tungsten oxides (WOx) are of great interest, being promising in
applications such as flat panel displays, ‘smart windows’,
semiconductor gas sensors, and photocatalysts.
 Have been synthesized including monoclinic W18O49 nanowires,
orthorhombic W3O8 nanowires, quasi-1D W5O14 crystals, twodimensional tetragonal WO2.9 nanowire networks, monoclinic WO3
nanowires, and cubic- structured WO3 nanowires
Sintesis Komponen Volatil Cairan
Tungsten
Prosedur Deposisi Uap Kimia
• Campuran gas reaktan dipersiapkan dengan menempatkan salah satu prekursor
tungsten cair, tungsten(0) pentakarbonil 1-metilbutilisonitril atau tungsten(0)
pentakarbonil n-pentilisonitril, dalam pompa jarum suntik dari yang disampaikan
pada tingkat yang stabil antara 1,5 dan 14 ml/h dalam Nozzle Ultrasonik Sonotek
dioperasikan dengan kekuatan 2,0-2,3 W pada frekuensi 125 kHz.
• Kabut yang dihasilkan tertahan kedalam 8,0-9,0 l/min aliran gas nitrogen
dipanaskan sampai 180°C untuk menguapkan tetesan cairan. Campuran gas ini
kemudian dicampur dalam T bersama dengan aliran 1,0-1,5 l/min gas oksigen
sebelum mencapai masuk ke reaktor. Kedua prekursor menunjukkan reaktivitas
hampir identik, dengan perbandingan sampel 1-6.
Pengukuran
Elektrokromis
Rincian Percobaan dan Sintesis
Kimia
• Sintesis 1-metilbutilformamida, CH3CH2CH2CH(CH3)NHC(=O)H
• Sintesis 1-metilbutilisonitril, CH3CH2CH2CH(CH3)NC
• Sintesis tungsten(0) pentakarbonil 1-metilbutilisonitril,
(CH3CH2CH2CH(CH3)NC)W(CO)5
Kesimpulan
 Film tungsten oksida diendapkan pada tekanan atmosfer dari uap yang
sesuai, prekursor stabil diudara, tungsten pentilisonitril pentakarbonil.
 Metode ini cepat dan mudah ditingkatkan sampai area yang luas. Film-film
menunjukkan perilaku elektrokromik dengan baik proton atau counter-ion
lithium.
 Kondisi deposisi mempengaruhi kepadatan film, dengan film-film kurang
padat menunjukkan warna yang lebih cepat dan lebih luas dan pemutihan.
Optimasi lebih lanjut dari kondisi ketebalan film dan deposisi diperlukan
untuk menghasilkan efek elektrokromik dengan rasio kontras yang lebih
tinggi.
APCVD TUNGSTEN OXIDE

Weitere ähnliche Inhalte

Ähnlich wie APCVD TUNGSTEN OXIDE

Makalah - SNTKI V - Slamet
Makalah - SNTKI V - SlametMakalah - SNTKI V - Slamet
Makalah - SNTKI V - SlametEka Hertanto
 
[Presentasi] Penggunaan dan Bahaya Radioisotop
[Presentasi] Penggunaan dan Bahaya Radioisotop[Presentasi] Penggunaan dan Bahaya Radioisotop
[Presentasi] Penggunaan dan Bahaya RadioisotopMuhamad Imam Khairy
 
2. Perjalanan Teknologi nano.pdf
2. Perjalanan Teknologi nano.pdf2. Perjalanan Teknologi nano.pdf
2. Perjalanan Teknologi nano.pdfsyuaibatulIslamiya
 
Kurita-CWS-Artas Heat Treatment.ppt
Kurita-CWS-Artas Heat Treatment.pptKurita-CWS-Artas Heat Treatment.ppt
Kurita-CWS-Artas Heat Treatment.pptbimbrembo1
 
PENURUNAN COD (CHEMICAL OXYGEN DEMAND) AIR SUNGAI DONAN CILACAP DENGAN FOTODE...
PENURUNAN COD (CHEMICAL OXYGEN DEMAND) AIR SUNGAI DONAN CILACAP DENGAN FOTODE...PENURUNAN COD (CHEMICAL OXYGEN DEMAND) AIR SUNGAI DONAN CILACAP DENGAN FOTODE...
PENURUNAN COD (CHEMICAL OXYGEN DEMAND) AIR SUNGAI DONAN CILACAP DENGAN FOTODE...Repository Ipb
 
437072886 spektrofotometri-infra-red
437072886 spektrofotometri-infra-red437072886 spektrofotometri-infra-red
437072886 spektrofotometri-infra-red20010DindaAnggraini
 
Inductively Coupled Plasma (SMAKBO)
Inductively Coupled Plasma (SMAKBO)Inductively Coupled Plasma (SMAKBO)
Inductively Coupled Plasma (SMAKBO)Carolina Silaen
 

Ähnlich wie APCVD TUNGSTEN OXIDE (14)

Makalah - SNTKI V - Slamet
Makalah - SNTKI V - SlametMakalah - SNTKI V - Slamet
Makalah - SNTKI V - Slamet
 
[Presentasi] Penggunaan dan Bahaya Radioisotop
[Presentasi] Penggunaan dan Bahaya Radioisotop[Presentasi] Penggunaan dan Bahaya Radioisotop
[Presentasi] Penggunaan dan Bahaya Radioisotop
 
Loporan amoniak
Loporan amoniakLoporan amoniak
Loporan amoniak
 
2. Perjalanan Teknologi nano.pdf
2. Perjalanan Teknologi nano.pdf2. Perjalanan Teknologi nano.pdf
2. Perjalanan Teknologi nano.pdf
 
Kurita-CWS-Artas Heat Treatment.ppt
Kurita-CWS-Artas Heat Treatment.pptKurita-CWS-Artas Heat Treatment.ppt
Kurita-CWS-Artas Heat Treatment.ppt
 
PENGENALAN TOKSIKOLOGI AKUATIK
PENGENALAN TOKSIKOLOGI AKUATIKPENGENALAN TOKSIKOLOGI AKUATIK
PENGENALAN TOKSIKOLOGI AKUATIK
 
Uranium
UraniumUranium
Uranium
 
Hasil Penelitian
Hasil PenelitianHasil Penelitian
Hasil Penelitian
 
Uranium
UraniumUranium
Uranium
 
PENURUNAN COD (CHEMICAL OXYGEN DEMAND) AIR SUNGAI DONAN CILACAP DENGAN FOTODE...
PENURUNAN COD (CHEMICAL OXYGEN DEMAND) AIR SUNGAI DONAN CILACAP DENGAN FOTODE...PENURUNAN COD (CHEMICAL OXYGEN DEMAND) AIR SUNGAI DONAN CILACAP DENGAN FOTODE...
PENURUNAN COD (CHEMICAL OXYGEN DEMAND) AIR SUNGAI DONAN CILACAP DENGAN FOTODE...
 
437072886 spektrofotometri-infra-red
437072886 spektrofotometri-infra-red437072886 spektrofotometri-infra-red
437072886 spektrofotometri-infra-red
 
Radioaktif
RadioaktifRadioaktif
Radioaktif
 
Spektrofotometer
SpektrofotometerSpektrofotometer
Spektrofotometer
 
Inductively Coupled Plasma (SMAKBO)
Inductively Coupled Plasma (SMAKBO)Inductively Coupled Plasma (SMAKBO)
Inductively Coupled Plasma (SMAKBO)
 

Mehr von Edi Mikrianto

Presentasi kelompok 3 (mk kimia unsur)
Presentasi kelompok 3 (mk kimia unsur)Presentasi kelompok 3 (mk kimia unsur)
Presentasi kelompok 3 (mk kimia unsur)Edi Mikrianto
 
Presentasi kelompok 1 (mk kimia unsur)
Presentasi kelompok 1 (mk kimia unsur)Presentasi kelompok 1 (mk kimia unsur)
Presentasi kelompok 1 (mk kimia unsur)Edi Mikrianto
 
Presentasi kelompok 7 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 7 (ssa) 2012Presentasi kelompok 7 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 7 (ssa) 2012Edi Mikrianto
 
Presentasi kelompok 5 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 5 (ssa) 2012Presentasi kelompok 5 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 5 (ssa) 2012Edi Mikrianto
 
Presentasi kelompok 7 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 7 (ssa) 2012Presentasi kelompok 7 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 7 (ssa) 2012Edi Mikrianto
 
Presentasi kelompok 3 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 3 (ssa) 2012Presentasi kelompok 3 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 3 (ssa) 2012Edi Mikrianto
 
Presentasi kelompok 2 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 2 (ssa) 2012Presentasi kelompok 2 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 2 (ssa) 2012Edi Mikrianto
 
Presentasi kelompok 4 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 4 (ssa) 2012Presentasi kelompok 4 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 4 (ssa) 2012Edi Mikrianto
 
Presentasi kelompok 1 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 1 (ssa) 2012Presentasi kelompok 1 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 1 (ssa) 2012Edi Mikrianto
 
Presentasi kelompok 6 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 6 (ssa) 2012Presentasi kelompok 6 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 6 (ssa) 2012Edi Mikrianto
 
Presentasi kelompok 5 (ssa) 2013
Presentasi kelompok 5 (ssa) 2013Presentasi kelompok 5 (ssa) 2013
Presentasi kelompok 5 (ssa) 2013Edi Mikrianto
 
Presentasi kelompok 4 (ssa) 2013
Presentasi kelompok 4 (ssa) 2013Presentasi kelompok 4 (ssa) 2013
Presentasi kelompok 4 (ssa) 2013Edi Mikrianto
 
Presentasi kelompok 2 (ssa) 2013
Presentasi kelompok 2 (ssa) 2013Presentasi kelompok 2 (ssa) 2013
Presentasi kelompok 2 (ssa) 2013Edi Mikrianto
 
Presentasi kelompok 3 (ssa) 2013
Presentasi kelompok 3 (ssa) 2013Presentasi kelompok 3 (ssa) 2013
Presentasi kelompok 3 (ssa) 2013Edi Mikrianto
 
Presentasi kelompok i (ssa) 2013
Presentasi kelompok i (ssa) 2013Presentasi kelompok i (ssa) 2013
Presentasi kelompok i (ssa) 2013Edi Mikrianto
 
Presentasi kelompok 9
Presentasi kelompok 9Presentasi kelompok 9
Presentasi kelompok 9Edi Mikrianto
 
Presentasi kelompok 4
Presentasi kelompok 4Presentasi kelompok 4
Presentasi kelompok 4Edi Mikrianto
 

Mehr von Edi Mikrianto (20)

Presentasi kelompok 3 (mk kimia unsur)
Presentasi kelompok 3 (mk kimia unsur)Presentasi kelompok 3 (mk kimia unsur)
Presentasi kelompok 3 (mk kimia unsur)
 
Presentasi kelompok 1 (mk kimia unsur)
Presentasi kelompok 1 (mk kimia unsur)Presentasi kelompok 1 (mk kimia unsur)
Presentasi kelompok 1 (mk kimia unsur)
 
Presentasi kelompok 7 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 7 (ssa) 2012Presentasi kelompok 7 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 7 (ssa) 2012
 
Presentasi kelompok 5 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 5 (ssa) 2012Presentasi kelompok 5 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 5 (ssa) 2012
 
Presentasi kelompok 7 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 7 (ssa) 2012Presentasi kelompok 7 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 7 (ssa) 2012
 
Presentasi kelompok 3 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 3 (ssa) 2012Presentasi kelompok 3 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 3 (ssa) 2012
 
Presentasi kelompok 2 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 2 (ssa) 2012Presentasi kelompok 2 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 2 (ssa) 2012
 
Presentasi kelompok 4 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 4 (ssa) 2012Presentasi kelompok 4 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 4 (ssa) 2012
 
Presentasi kelompok 1 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 1 (ssa) 2012Presentasi kelompok 1 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 1 (ssa) 2012
 
Presentasi kelompok 6 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 6 (ssa) 2012Presentasi kelompok 6 (ssa) 2012
Presentasi kelompok 6 (ssa) 2012
 
Presentasi kelompok 5 (ssa) 2013
Presentasi kelompok 5 (ssa) 2013Presentasi kelompok 5 (ssa) 2013
Presentasi kelompok 5 (ssa) 2013
 
Presentasi kelompok 4 (ssa) 2013
Presentasi kelompok 4 (ssa) 2013Presentasi kelompok 4 (ssa) 2013
Presentasi kelompok 4 (ssa) 2013
 
Presentasi kelompok 2 (ssa) 2013
Presentasi kelompok 2 (ssa) 2013Presentasi kelompok 2 (ssa) 2013
Presentasi kelompok 2 (ssa) 2013
 
Presentasi kelompok 3 (ssa) 2013
Presentasi kelompok 3 (ssa) 2013Presentasi kelompok 3 (ssa) 2013
Presentasi kelompok 3 (ssa) 2013
 
Kelompok 4
Kelompok 4Kelompok 4
Kelompok 4
 
Kelompok 3
Kelompok 3Kelompok 3
Kelompok 3
 
Kelompok 2
Kelompok 2Kelompok 2
Kelompok 2
 
Presentasi kelompok i (ssa) 2013
Presentasi kelompok i (ssa) 2013Presentasi kelompok i (ssa) 2013
Presentasi kelompok i (ssa) 2013
 
Presentasi kelompok 9
Presentasi kelompok 9Presentasi kelompok 9
Presentasi kelompok 9
 
Presentasi kelompok 4
Presentasi kelompok 4Presentasi kelompok 4
Presentasi kelompok 4
 

APCVD TUNGSTEN OXIDE

  • 1. ATMOSPHERIC PRESSURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF ELECTROCHROMIC TUNGSTEN OXIDE FILMS (Deposisi Uap Kimia Tekanan Atmosfer Film Elektrokromik Tungsten Oksida) EDI MIKRIANTO.,S.Si.,M.Si EDI MIKRIANTO.,S.Si.,M.Si Pembimbing Mata Kuliah SSA Pembimbing Mata Kuliah SSA (Sintesis Senyawa Anorganik) (Sintesis Senyawa Anorganik) Disusun Oleh: Shinta Yuniar Yusy Muridha Sari Rara Iuda V. T Miftahul Aulya I. Ari Wahyudi Deby Dwi Diliaty Hapsari Tyas P. PROGRAM STUDI S-1 KIMIA FAKULTAS MATEMATIKA DAN ILMU PENGETAHUAN ALAM UNIVERSITAS LAMBUNG MANGKURAT BANJARBARU J1B110010 J1B110017 J1B111025 J1B111027 J1B110033 J1B111046
  • 2. Latar Belakang… • Banyaknya jenis metode sintesis material • Tungsten Oksida • Metode Chemical Vapor Deposition/Deposisi Uap Kimia ATMOSPHERIC PRESSURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF ELECTROCHROMIC TUNGSTEN OXIDE FILMS (Deposisi Uap Kimia Tekanan Atmosfer Film Elektrokromik Tungsten Oksida)
  • 3. METAL-ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION LASER CHEMICAL VAPOR DEPOSITION (LCVD) PLASMA-ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION CHEMICAL VAPOR DEPOSITION/ DEPOSISI UAP KIMIA THERMAL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION ATMOSPHERIC PRESSURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION (APCVD) PHOTO-ASSISTED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION HOT FILAMENT CHEMICAL VAPOR DEPOSITION (HFCVD)
  • 4. Chemical Vapor Deposition  Chemical vapour deposition is essentially the formation of a thin film on a substrate, of varying description, by a chemical reaction of vapour phase precursors.  The reaction in these instances occurs in the gas-phase, which is what distinguishes CVD from other physical vapour deposition processes, such as evaporation and reactive sputtering.  ADVANTAGES : the production of highly dense and pure phase materials, films have excellent adhesion, are uniform and easily reproducible, crystal structure, surface morphology and orientation of products can be controlled with ease, deposition rates can be adjusted.
  • 5. An overview of the process is shown below in Fig. 1
  • 6. TUNGSTEN OKSIDA  Bahan utama dalam berbagai macam perangkat elektrokromik.  Tungsten oxides (WOx) are of great interest, being promising in applications such as flat panel displays, ‘smart windows’, semiconductor gas sensors, and photocatalysts.  Have been synthesized including monoclinic W18O49 nanowires, orthorhombic W3O8 nanowires, quasi-1D W5O14 crystals, twodimensional tetragonal WO2.9 nanowire networks, monoclinic WO3 nanowires, and cubic- structured WO3 nanowires
  • 7. Sintesis Komponen Volatil Cairan Tungsten
  • 8. Prosedur Deposisi Uap Kimia • Campuran gas reaktan dipersiapkan dengan menempatkan salah satu prekursor tungsten cair, tungsten(0) pentakarbonil 1-metilbutilisonitril atau tungsten(0) pentakarbonil n-pentilisonitril, dalam pompa jarum suntik dari yang disampaikan pada tingkat yang stabil antara 1,5 dan 14 ml/h dalam Nozzle Ultrasonik Sonotek dioperasikan dengan kekuatan 2,0-2,3 W pada frekuensi 125 kHz. • Kabut yang dihasilkan tertahan kedalam 8,0-9,0 l/min aliran gas nitrogen dipanaskan sampai 180°C untuk menguapkan tetesan cairan. Campuran gas ini kemudian dicampur dalam T bersama dengan aliran 1,0-1,5 l/min gas oksigen sebelum mencapai masuk ke reaktor. Kedua prekursor menunjukkan reaktivitas hampir identik, dengan perbandingan sampel 1-6.
  • 9.
  • 10.
  • 12. Rincian Percobaan dan Sintesis Kimia • Sintesis 1-metilbutilformamida, CH3CH2CH2CH(CH3)NHC(=O)H • Sintesis 1-metilbutilisonitril, CH3CH2CH2CH(CH3)NC • Sintesis tungsten(0) pentakarbonil 1-metilbutilisonitril, (CH3CH2CH2CH(CH3)NC)W(CO)5
  • 13. Kesimpulan  Film tungsten oksida diendapkan pada tekanan atmosfer dari uap yang sesuai, prekursor stabil diudara, tungsten pentilisonitril pentakarbonil.  Metode ini cepat dan mudah ditingkatkan sampai area yang luas. Film-film menunjukkan perilaku elektrokromik dengan baik proton atau counter-ion lithium.  Kondisi deposisi mempengaruhi kepadatan film, dengan film-film kurang padat menunjukkan warna yang lebih cepat dan lebih luas dan pemutihan. Optimasi lebih lanjut dari kondisi ketebalan film dan deposisi diperlukan untuk menghasilkan efek elektrokromik dengan rasio kontras yang lebih tinggi.